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EUV(極紫外線)露光装置の市場規模のまとめ

注目分野、注目技術の市場規模、研究開発動向を調べることができます。

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EUV(極紫外線)露光装置の市場動向が注目されています。

EUVは10nmの極細の回路幅で露光することが可能。「極細」が実現できると、注目されるウェアラブル端末の小型化、IoTの実現に一歩前進すると言われています。極細の回路幅ではオランダのASMLが先行、極細回路幅の市場では8000億円のうち80%がASML、それに加え、今年、台湾の会社が、ASMLのEUV装置を使って、回路の焼付に成功、実用化に近づいています。今後に注目です。

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